某半导体电子器件电子器件营造厂在晶圆制作加工流程中，选用硅烷采取硅外延性出显，汽车尾气洗條塔发生高氧化还原电位含硅化工废水处理。化工废水处理兼具pH浮动大（2-11）、硅含氧量高的特质，传统型处理办法易出显硅垢梗塞的问题。 废液因素及来源地 焦化废水主要是材料为： 溶解完性硅酸盐 ：SiO₂有机废气浓度达1000-1500mg/L 磷酸/氢氧化物钠 ：清洗塔酸性清洗液留 小粒硅 ：奈米级SiO₂橡胶胶体部分 痕量砷 ：工业原料残渣带 处置的工艺流量 技术创新应用"多级采和+膜油烟净化器+蒸发掉凝结"制作工艺： 1阶段中合 ：用CaO自动调节pH至4-5，出现硅酸钙沉淀物中，硅去掉率60%。 二次中合 ：加Na₂CO₃将pH加强至9，进这一步积累多余硅，串并联用镁剂除砷。 超滤膜系统的 ：0.02μm瓷质膜滤出纳米级级硅颗粒状，通量增强在80LMH。 MVR汽化器 ：提液高盐污废水 ，结晶体出Na₂SO₄副护肤品，水回收率超90%。 不可能效果好 总硅从1500mg/L下降5mg/L一下 砷分量从0.8mg/L降落到0.01mg/L 软件系统无积灰加载超出2年 年均再利用硫酸钠钠纳米线约800吨